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Materials Science 材料科学
Micro/NanoElectronics - Materials Science
Vapor Deposition Precursors - Micro/NanoElectronics
CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems - Vapor Deposition Precursors
CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems - Vapor Deposition Precursors
下级目录
24: Chromium - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
40: Zirconium - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
30: Zinc - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
39: Yttrium - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
74: Tungsten - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
73: Tantalum - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
44: Ruthenium - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
78: Platinum - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
42: Molybdenum - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
72: Hafnium - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
31: Gallium - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
27: Cobalt - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
23: Vanadium - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
22: Titanium - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
14: Silicon - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
13: Aluminium - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
41: Niobium - CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems
目录项下的产品
546-68-9 / MFCD00008871
Titanium(IV) isopropoxide
四异丙醇钛
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78-10-4 / MFCD00009062
Tetraethoxysilane
原硅酸四乙酯
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10026-04-7 / MFCD00011229
Tetrachlorosilane
四氯化硅
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7550-45-0 / MFCD00011267
Titanium(IV) Chloride
四氯化钛
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3275-24-9 / MFCD00014861
Tetrakis(Dimethylamino)Titanium TDMAT
四(二甲胺基)钛
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5588-84-1 / MFCD00015017
Triisopropoxyvanadium(V) oxide
三异丙氧基氧化钒(V)
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3236-82-6 / MFCD00015122
Niobium(5+) ethanolate
乙醇铌
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4419-47-0 / MFCD00015648
Tetrakis(Diethylamino)Titanium(Iv)
四（二乙氨基）钛（IV）
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2370-88-9 / MFCD00039567
Cyclotetrasiloxane, 2,4,6,8-tetramethyl-
2,4,6,8-四甲基环四硅氧烷
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6074-84-6 / MFCD00049785
Tantalum(V) ethoxide
乙醇钽(V)
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2081-12-1 / MFCD00075085
Zirconium(IV) Tert-Butoxide
四叔丁醇锆
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18166-43-3 / MFCD00271024
Tris(Tert-Butoxy)Silanol
三(叔丁氧基)硅烷醇
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63370-90-1 / MFCD01320914
Tetrakis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)hafnium(IV)
四(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚烷二酮)铪(IV)
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35789-02-7 / MFCD03411248
Tris[N,N-bis(trimethylsilyl)amide]europium(III)
三[N,N-双(三甲基硅烷)胺]铕(III)
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37512-28-0 / MFCD03427088
Tris[N,N-bis(trimethylsilyl)amide]scan(III)
三[N,N-双(三甲基硅烷)胺]钪(III)
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35789-01-6 / MFCD03427097
Tris[N,N-bis(trimethylsilyl)amide]samarium(III)
三[N,N-双(三甲基硅烷)胺]钐(III)
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17906-35-3 / MFCD03427135
Tri-T-Pentoxysilanol
三叔戊氧基硅烷醇
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安徽省
N/A / MFCD16659983
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京ICP备2020036287号